ʻO ka hana a me ke kumu o nā loulou nui o ka electroplating pretreatment

① Hoʻomāmā
1. Hana: Wehe i nā ʻaila hinu momona a me nā mea lepo ʻē aʻe ma ka ʻili o ka mea e loaʻa ai ka hopena electroplating maikaʻi a pale i ka haumia i nā kaʻina hana hope.
2. Ka mana o ka wela: 40 ~ 60 ℃
3. Mechanism o ka hana:
Me ke kōkua o ka saponification a me ka emulsification o ka hopena, hiki ke hoʻokō ʻia ke kumu o ka wehe ʻana i nā ʻaila hinu.
ʻO ka lawe ʻia ʻana o nā aila holoholona a me nā aila meaʻai ma muli o ka hopena saponification.ʻO ka mea i kapa ʻia ʻo saponification ʻo ia ke kaʻina o ka hopena kemika ma waena o ka ʻaila a me ka alkali i loko o ka wai degreasing e hana i ke kopa.Hoʻoheheʻe ʻia ka ʻaila i hiki ʻole ke hoʻoheheʻe ʻia i ka wai i ke kopa a me ka glycerin i hiki ke hoʻoheheʻe ʻia i ka wai, a laila wehe ʻia.
4. Nā mea e pono ai ka nānā ʻana:

1) Hiki i ka Ultrasonic oscillation ke hoʻonui i ka hopena degreasing.
2) Ke lawa ʻole ka ʻike ʻana o ka pauka degreasing, ʻaʻole hiki ke hoʻokō i ka hopena degreasing;ke kiʻekiʻe loa ka manaʻo, ʻoi aku ka nui o ka poho a piʻi ke kumukūʻai, no laila pono e hoʻomalu ʻia i loko o kahi ākea kūpono.
3) Ke lawa ʻole ka mahana, ʻaʻole maikaʻi ka hopena degreasing.Hiki i ka hoʻonui ʻana i ka mahana ke hoʻemi i ka ʻili o ka ʻili o ka hopena a me ka momona a hoʻonui i ka hopena degreasing;ke kiʻekiʻe loa ka mahana, hiki ke hoʻololi i ka mea.Pono e hoʻomalu ponoʻia ka mahana i ka wā e hana ai.
4) Ma hope o ke kaʻina hana degreasing, pono e hoʻomaʻemaʻe loa ka ʻili o ka mea.Inā ʻike maopopo ʻia ka repulsion ma waena o nā kulu wai a me ke kikowaena waiwai, ʻo ia ka mea ʻaʻole i hoʻokō ka hana i nā koi.E hana hou i ka hana a hoʻoponopono i nā ʻāpana i ka manawa.

②Pehu
Mechanism o ka hana:
Hoʻonui ka mea pehu i ka mea hana e hoʻokō ai i ka micro-corrosion o ka honua, ʻoiai e hoʻoluliluli i ka mea ponoʻī, e hoʻokuʻu ana i ke koʻikoʻi ʻole i hoʻokumu ʻia e ka hoʻoheheʻe ʻia ʻana a i ʻole nā ​​​​mea, i hiki ke hoʻohālikelike ʻia ke kaʻina hana roughening hope.
ʻOkoʻa ke ʻano o ka nānā ʻana i ke koʻikoʻi kūloko o ka mea electroplating no nā mea like ʻole.No ka ABS, hoʻohana maʻamau ke ʻano hoʻoheheʻe ʻana i ka waikawa acetic glacial.

1679900233923

③Ka hoʻopaʻa ʻana
1. Ka mana o ka wela: 63 ~ 69 ℃
2. ʻO ka plastik ABS he terpolymer o ka acrylonitrile (A), butadiene (B) a me ka styrene (S).I ka wā o ke kaʻina hana paʻakikī, paʻa nā ʻāpana palaka e hana i nā lua, e hana ana i ka hydrophobic i ka hydrophilic, no laila e pili ka papa plating i ka ʻāpana plastik a paʻa paʻa.
Nā mea e mālama ai:
1) Loaʻa ka hoʻoheheʻe chromium kiʻekiʻe a me ka wikiwiki coarsening a me ka hoʻopili ʻana i ka uhi maikaʻi;akā, inā ʻoi aku ka nui o ka waika chromic a me ka sulfuric acid ma mua o 800 g/L, e hoʻohaʻahaʻa ka hopena, no laila pono e hoʻomau i ka hoʻoulu ʻana i ke kinoea.
2) Ke lawa ʻole ka hoʻopaʻa ʻana, ʻilihune ka hopena coarsening;ke kiʻekiʻe loa ka manaʻo, hiki ke maʻalahi i ka over-coarse, hōʻino i nā mea, a lawe mai i nā poho nui a hoʻonui i ke kumukūʻai.
3) Ke lawa ʻole ka mahana, ʻaʻole maikaʻi ka hopena roughening, a i ka wā kiʻekiʻe loa ka mahana, hiki ke hoʻololi ʻia ka mea.

④Neutralization (ʻo ka mea nui ka waika hydrochloric)
1. Hana: E hoʻomaʻemaʻe i ka hexavalent chromium i koe i loko o nā micropores o ka mea ma hope o ka roughening a me ka corrosion e pale i ka pollution i ka hana ma hope.
2. Mechanism o ka hana: I ka wā o ke kaʻina hana ʻinoʻino, ua hoʻoheheʻe ʻia nā ʻāpana lāʻau lapaʻau, e hana ana i mau lua, a e koe ka wai ʻawaʻawa i loko.No ka mea o ka hexavalent chromium ion i loko o ka wai roughening he mau waiwai oxidizing ikaika, e hoʻohaumia ia i ke kaʻina hana.Hiki ke hoʻemi ʻia ka waiuma hydrochloric i nā ion chromium trivalent, a laila e nalowale ana nā waiwai oxidizing.
3. Nā mea e pono ai ka nānā ʻana:

1) He mea maʻalahi ka hoʻoulu ʻana o ke kinoea, hiki ke hoʻonui i ka neutralization a me ka hopena hoʻomaʻemaʻe, akā ʻaʻole maʻalahi ka nui o ka ea, i mea e pale aku ai i ka nalowale o ka volatilization hydrochloric acid.
2) Ke lawa ʻole ka manaʻo, ʻilihune ka hopena hoʻomaʻemaʻe;ke kiʻekiʻe loa ka manaʻo, ʻoi aku ka nui o ka lawe ʻana i waho a piʻi ke kumukūʻai.
3) Hiki i ka piʻi ʻana o ka mahana ke hoʻonui i ka hopena hoʻomaʻemaʻe.Ke kiʻekiʻe loa ka mahana, e nui ka nalowale o ka volatilization, kahi e hoʻonui ai i ke kumukūʻai a hoʻohaumia i ka ea.
4) I ka hoʻohana ʻana, e hōʻiliʻili a hoʻonui ʻia nā ion chromium trivalent.Ke ʻōmaʻomaʻo ʻeleʻele ka wai, ʻo ia ka mea he nui loa nā ion chromium trivalent a pono e hoʻololi pinepine ʻia.

⑤ Hoʻoulu (catalysis)
1. Hana: E waiho i kahi papa o ka colloidal palladium me ka hana catalytic ma ka ʻili o ka mea.
2. Mechanism of action: polymers i loaʻa nā pūʻulu ikaika hiki ke hana i nā paʻakikī me nā ion metala makamae.
3. Hoʻomalu:
1) Mai hoʻoulu i ka wai hoʻōla, i ʻole e hoʻoheheʻe ʻia ka mea hana.
2) Hiki i ka piʻi ʻana o ka mahana ke hoʻonui i ka hopena o ka palladium sinking.Ke kiʻekiʻe loa ka mahana, e decompose ka mea hoʻoulu.
3) Ke lawa ʻole ka manaʻo o ka mea hana, ʻaʻole lawa ka hopena palladium precipitation;ke kiʻekiʻe loa ka manaʻo, nui ka pohō o ka lawe ʻana a piʻi ke kumukūʻai.

⑥ Kemikala nikela
1. Ka mana o ka wela: 25 ~ 40 ℃
2. Hana: E waiho i kahi ʻāpana metala like ʻole ma luna o ka ʻili o ka mea, i hoʻololi ʻia ka mea mai kahi mea hoʻokele ʻole i kahi alakaʻi.
3. Nā mea e pono ai ka nānā ʻana:
1) Hypophosphorous acid he mea ho'ēmi no ka nickel.Ke kiʻekiʻe ka maʻiʻo, e piʻi aʻe ka wikiwiki o ka deposition a ʻeleʻele ka papa plating, akā ʻilihune ka paʻa o ka hopena plating, a e hoʻolōʻihi i ka hanauna o nā radical hypophosphite, a e maʻalahi ka hoʻoheheʻe plating.
2) Ke piʻi aʻe ka mahana, piʻi ka helu deposition o ka hopena plating.Ke kiʻekiʻe loa ka mahana, no ka wikiwiki loa o ka deposition rate, hiki i ka hoʻonā plating ke hoʻopau iā ia iho a ua pōkole ke ola o ka hopena.
3) He haʻahaʻa ka pH waiwai, lohi ka wikiwiki o ka hoʻoheheʻe ʻana, a piʻi ka wikiwiki o ka sedimentation ke piʻi ka pH.Ke kiʻekiʻe loa ka waiwai o ka PH, ua waiho wikiwiki ʻia ka uhi a ʻaʻole lawa ka paʻa, a hiki ke hana ʻia nā ʻāpana.


Ka manawa hoʻouna: Mar-27-2023